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纳设智能首台原子层沉积设备出货-麻将胡了
麻将胡了, 2024-10-26

2024年 纳设智能延长 宽大先进材料制造装备领域迈出了重要一步——自主研发的首台原子层沉积设备已经完成了所有生产和测试流程,顺利出货!

source:纳设智能

原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种薄膜沉积技术,可归于化学气相沉积大类。相对于一般化学气相沉积,其具有独特的表面自限制化学效应,因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料,实现更精确的厚度控制。该技术制备的薄膜具有良好的的厚度均匀性,优异的一致性,突出的三维保型性,可用于各类衬底材料的薄膜沉积。

纳设智能利用自身格外 分庭抗礼半导体外延设备、化学气相沉积技术等方面积累的经验及软硬件基础,推出了规格更严、性能更优的ALD设备。 图片

纳设智能的ALD设备可对玻璃、硅片等衬底材料进行超薄氧化物、氮化物等材料的镀膜,可以制备出均匀性好、保形性优、致密性佳的薄膜材料,可应用于对超薄薄膜(1nm~50nm)有需求的各个领域。

来源:纳设智能

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