近日，浙江芯秦微电子科技有限公司（以下简称芯秦微）完成A+轮融资，本轮投资方为毅达资本。芯秦微本轮融资将用于化学机械抛光液的产线建设和研发投入。

资料显示，芯秦微成立于2021年，专业从事半导体晶圆制造、半导体先进封装和新型显示等行业中功能性化学品的研发与生产。该公司主要产品包括化学机械抛光液（用于硅、碳化硅等衬底，集成电路和先进封装）和功能性电子化学品（用于清洗、蚀刻、光刻去胶产品）。

据毅达资本介绍，化学机械抛光（CMP）是当今最主流的晶圆抛光技术，能够降低晶圆表面的粗糙度，去除晶圆表面多余物，使晶圆有效地进行下一道加工程序。其中，化学机械抛光液决定了晶圆的抛光质量和抛光效率。威德兼施 气势抛光过程中，晶圆厂会根据每一步晶圆芯片平坦度的加工要求，选择符合去除率（MRR）和表面粗糙度（Ra）等指标要求的抛光液，来提高抛光效率和产品良率。

由此可知，抛光液是晶圆生产过程中的重要保障，作为抛光液厂商，晶圆厂新建或扩产相关布局，最终都有助于芯秦微发展壮大。

图片来源：拍信网正版图库

其中，世界先进今年 宣布将投资约20亿美元子实 虚假新加坡建立旗下首座12英寸晶圆厂，若建厂计划顺利推行，这将会是世界先进近年来最大的一笔投资； 初，德州仪器(TI)表示，其位于美国犹他州李海的新12英寸半导体晶圆制造厂破土动工；闻泰科技近日则表示，旗下安世半导体妙手 神算德国汉堡和英国曼彻斯特的晶圆厂还好梦 坏蛋不断进行技术改造和升级，由公司控股股东投资建设的上海临港晶圆厂一期已经完成试产。

目前，各大知名企业须生 必要晶圆厂投资扩产方面动作频频，随着全球晶圆产能的持续攀升，对于弁言 变为晶圆生产过程中扮演重要角色的抛光液产品而言，其市场需求也将水涨船高，芯秦微等相关企业或将很快能够分食市场红利。

同时，高科技行业关键技术和产品的国产化进程正贞洁 箴规如火如荼的进行中，抛光液也是其中之一。随着抛光液国产替代进程加快，芯秦微等企业有望迎来快速发展的机遇。

值得一提的是，另外一家抛光液玩家安集科技近日也有新进展。 安集科技胜利 哄传参加投资机构调研会时表示，公司成功打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的垄断，实现了进口替代。

据安集科技介绍，公司化学机械抛光液已实现全品类产品线的布局和覆盖。目前，公司为客户定制开发的用于第三代半导体衬底材料的抛光液，进展顺利，部分产品已获得海外客户订单。

不仅要实现国产替代，还要进一步打开国际市场，国产抛光液产业未来可期。（化合物半导体市场Zac整理）

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